リソグラフィーの工程においては、わずか半度の温度変動だけでも、ウェハの寸法精度に影響を与え、結果としてワッファー全体が廃棄されることになります。必要なのは、感覚的に「十分に熱くなっている」と思える程度の温度ではなく、毎回一定の条件で加熱できる温度です。
私たちが開発したもの、そしてその意義 このコンパクトな赤外線乾燥装置には、中波NIRエミッターや石英ベースの熱供給システムが搭載されており、ウェハ全体において±0.1℃の温度均一性を保つことができます。ループ制御により温度の再現性が高く、柔らかい加熱や強い加熱も所定の範囲内で行われます。
また、この装置はクリーンルーム対応であり、Class 1–100の環境下で使用可能です。ガス放出が少ない材料を使用し、層流状の空気流によって粒子の発生を防ぎます。実際には、この装置によって欠陥が生じることはなく、常に安定した加熱処理が行われます。
なぜこの装置がファブの現場に適しているのか IC製造において、この装置は高速性と精度の両方を実現します。設定温度に素早く到達し、狭い範囲内で柔らかい加熱や強い加熱を行うことができます。また、長時間にわたっても温度均一性を維持できます。その結果、CDの精度が安定し、再作業が減少し、歩留まりも安定します。
迅速に反応し、必要な部分のみを加熱するため、エネルギー消費も削減されます。さらに、サイズが小さいため、限られたスペースの中でも問題なく設置できます。
正しく動作させるために必要なこと 組み込みは簡単ですが、専用の電源回路や、クリーンで乾燥した圧縮空気が必要です。これにより、 purgingや排気通路が正常に機能します。また、フォトレジストの種類に合わせて、調整を行うためのテスト運転も必要です。
一度設定が完了すれば、この装置は24時間365日稼働し、継続的に同じ温度プロファイルで加熱処理を行います。