Di lantai pengeluaran yang canggih ini, wafer yang keluar dari proses pembersihan bukanlah sesuatu yang “basah” semata-mata. Sebaliknya, kelembapan yang masih ada merupakan masalah yang boleh membawa kesan buruk pada masa akan datang, seperti pembentukan struktur mikro atau keretakan pada permukaan wafer – tepat pada saat kita sedang berusaha untuk mempertahankan bentuk geometri fotoresist tersebut.
Proses pengeringan konvensional boleh menyebabkan perbezaan suhu di seluruh permukaan wafer. Perbezaan suhu ini bukan sekadar faktor teori semata-mata; ia akan menyebabkan variasi ketebalan garisan pada permukaan wafer. Oleh itu, kami menggunakan pemanas inframerah untuk menghilangkan faktor variabel tersebut.
Apa yang benar-benar penting dari segi teknikal
Pemancar inframerah gelombang pendek yang digunakan memastikan keseragaman suhu pada seluruh permukaan wafer, dengan tahap ketepatan hingga ±0.1°C semasa proses pemanasan fotoresist. Sumber tenaga jenis kuarsa-halogen pula membolehkan tenaga disalurkan secara langsung dan cepat, sehingga masa tindak balas termal hanya dalam milisaat, bukan minit. Ketepatan proses juga dijamin melalui sistem kawalan automatik PID, serta kurva kalibrasi yang boleh ditandingi dengan standard NIST. Hasilnya, proses pengeluaran menjadi lebih boleh dipercayai, dari batch ke batch.
Mengapa ia sesuai dengan cara kita menjalankan proses pengeluaran
Dalam unit litografi serta proses pelapisan/pemanasan, pemanas ini dapat beroperasi dalam persekitaran kelas 1–100. Reka bentuknya memastikan tiada zarah terbentuk, sekaligus mengurangkan jumlah kecacatan dan meningkatkan kadar pengeluaran. Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana pemanas hanya memanaskan objek yang perlu dipanaskan, bukan seluruh ruangan. Masa yang diperlukan untuk proses pemanasan juga berkurangan, tanpa menjejaskan kualiti hasil pengeluaran. Profil fotoresist tetap konsisten, sama ada pada wafer pertama mahupun wafer ke seribu, sehingga masa yang diperlukan untuk memperbaiki atau membuang produk yang rosak dapat dikurangkan.
Butiran praktikal yang perlu diperhatikan
Anda memerlukan penyesuaian yang tepat terhadap arah pandangan ke arah wafer, dan profil kuasa yang digunakan juga perlu sempurna. Penurunan voltan dan gangguan elektromagnetik boleh merosakkan prestasi sistem kawalan. Kami menggunakan sumber kuasa yang telah disaring agar prestasi pemanas tetap optimum. Setelah diselaraskan, pemanas ini boleh beroperasi 24/7 dengan penyelenggaraan yang minimum. Namun, jangka hayat pemancar ini adalah terhad; oleh itu, gantian pemancar perlu dilakukan setelah 5,000 jam operasi, agar keseragaman suhu tetap terjaga.