Di bilik proses litografi, proses pemanasan tersebut bukan sekadar cara untuk memanaskan bahan tersebut secara sederhana. Proses ini bertujuan untuk menstabilkan komposisi pelarut yang digunakan, membentuk struktur cakera padat dengan betul, serta menentukan tahap ketidakrataan permukaan cakera padat tersebut sepanjang hari. Jika suhu pemanasan berubah sebanyak ±2°C, kualiti cakera padat akan merosot dengan cepat. Kami telah mencipta pemanas inframerah gelombang sederhana untuk memproses wafer, agar variasi suhu dapat dikurangkan.
Apa yang penting dari segi teknikalnya
Pemanas inframerah gelombang sederhana memanaskan lapisan fotoresist secara menyeluruh, bukan hanya pada permukaannya sahaja. Dengan cara ini, proses pemanasan berlaku lebih cepat tanpa kelewatan. Kami dapat mengekalkan keseragaman suhu pada tahap ±0.1°C di seluruh kawasan wafer, dan konsistensi suhu antara setiap sesi pemprosesan pada tahap ±0.05°C. Pelindung pemanas terletak di belakang pembungkus kuarsa yang kedap udara – tiada bahagian yang boleh menyebabkan pelepasan gas atau zarah-zarah berbahaya. Badan pemanas juga sesuai digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100. Setiap permukaan pemanas dilindungi supaya jumlah zarah tetap stabil, walaupun semasa proses pemprosesan berlangsung 24/7. Kawalan suhu dilakukan pada tahap wafer itu sendiri, bukan pada pemanas itu sendiri.
Mengapa ia berkesan dalam praktiknya
Dalam proses pemanasan fotoresist, pelarut perlu dikeluarkan dengan cepat dan secara seragam. Kemudian, suhu perlu dipertahankan secara stabil semasa wafer bergerak. Sistem inframerah gelombang sederhana kami dapat mencapai suhu yang diinginkan dalam masa beberapa saat, dan mengekalkannya secara stabil. Dengan cara ini, setiap wafer akan mendapat pengaruh suhu yang sama. Hasilnya adalah kawalan kualiti cakera padat yang lebih baik, kurangnya keperluan untuk memproses semula wafer, dan kelajuan pemprosesan yang lebih tinggi tanpa perlu menguruskan variasi suhu. Anda juga dapat menjimatkan tenaga, kerana pemanas ini hanya memanaskan kawasan yang diperlukan sahaja, dan massa haba yang rendah mengurangkan pembaziran tenaga.
Beberapa nota praktikal
Gelombang sederhana ini sesuai untuk filem organik pada silikon, tetapi ia sensitif terhadap perbezaan emissiviti pada logam atau lapisan dielektrik yang tebal. Anda perlu melakukan ujian pendek untuk menetapkan parameter yang sesuai dan memastikan prestasi sistem tersebut. Pemasangan sistem ini memerlukan bekalan kuasa yang stabil serta antaramuka mekanikal yang kukuh dengan wafer chuck. Sebarang penyimpangan yang kecil pun boleh mengganggu keseragaman suhu. Setelah diselaraskan, sistem ini boleh beroperasi tanpa banyak penyelenggaraan. Apabila tiba masa untuk mengganti komponen-komponen tertentu, anda boleh merancang penggantian tersebut pada waktu yang sesuai. Anda tidak perlu dibangunkan di tengah malam hanya kerana masalah teknikal.