Sušení záplatovací masky pro čipovou desku
V prostorách výroby není krok sušení vrstvy zinku pouze přestávkou – jedná se o klíčový bod v procesu výroby. Pokud dojde k odchylkám během procesu...
Infračervený ohřívač na sušení waferů
V prostorách určených k výrobě polovodičů není wafer po vyjmutí z čisticího procesu jen „vlhký“. Jedná se o problém, který může později vést ke...
Infračervený zahřívač na střední vlně pro čipy
V prostoru určeném k litografii není tento proces jen obyčejným zahříváním. Umožňuje totiž ustálení složení rozpouštědel, určuje parametry povrchu CD...