Fab 라인에서 소프트 베이크와 하드 베이크는 단순한 “열 처리 단계”가 아니다. 이는 마치 줄타기와 같다. 2°C의 편차만으로도 치수(CD)가 목표에서 벗어날 수 있으며, 베이크 과정 중 입자가 발생하면 수율이 급격히 떨어진다. 당사는 이러한 두 가지 실패 원인을 근본적으로 차단하기 위해 제어된 분위기 베이크 램프를 개발했다.
실제로 중요한 부분
당사는 쿼츠-할로겐 요소와 단파장 적외선(SWIR) 가열을 사용하며, 공정 챔버는 밀폐되고 질소 퍼지로 산소와 수분 유입을 차단한다. 베이크 존 전반에 걸쳐 웨이퍼 수준의 온도 균일성은 ±0.1°C 내외를 유지하며, 설정값 반복성은 ±0.2°C 이내다. 레시피 변경 시 시스템은 5초 이내에 안정화되어 긴 불필요한 열 침지 없이도 혼합 제품을 처리할 수 있다.
클린룸 Class 1–100에 적합하며, 저발산 재료와 입자 수 급증을 방지하는 필터링된 배기 경로를 갖추고 있다.
리소그래피에서의 작동 원리
리소그래피에서는 같은 포토레지스트 프로파일을 반복해서 재현하는 것이 필수적이다. 이 램프는 열 예산을 엄격히 제어하여 라인폭 변동을 줄이고 프로파일 제어를 향상시킨다. 제어된 대기 환경은 스킨 형성과 용매 포획을 줄여 결함을 감소시키고 재작업을 최소화한다.
SWIR은 직접 가열하고 사이클이 짧아 에너지 소비도 감소한다. 또한 24/7 팹 환경에 맞춰 설계되어 유지보수 주기를 계획할 수 있어 예기치 않은 다운타임을 줄인다.
설치 및 유지보수 시 유의사항
설치 시 전용 클린룸 전원 회로와 적절한 압력 및 순도의 질소 공급이 필수적이다. 가스 공급이 부적절하면 온도 안정성이 저하된다.
설비 크기는 컴팩트하지만 배기 덕트와 정비 접근 공간 확보는 필요하다.
가동률 확보를 위해 램프 수명 관리 및 쿼츠 창 검사에 대한 예방 유지보수를 계획적으로 시행해야 한다. 일정에 맞춘 점검으로 균일성과 입자 성능을 규격 내로 유지할 수 있다.