리소그래피 공정에서는, 단 0.5도라는 짧은 온도 변화만으로도 웨이퍼의 치수에 심각한 영향을 미쳐, 결국 전체 웨이퍼 생산이 망가질 수 있습니다. 그러므로 “넉넉한” 열량이 필요한 것이 아니라, 매번 일정한 수준의 열이 공급되어야 합니다.
우리가 만든 제품과 그 중요성 우리는 이 컴팩트한 적외선 건조기에 중파 NIR 방사체와 석영 기반의 열 처리 장치를 탑재하여, 웨이퍼 전체에 걸쳐 ±0.1°C의 일관된 온도를 유지할 수 있도록 했습니다. 폐루프 제어 시스템 덕분에 온도의 반복성이 높아져, 부드러운 열처리나 강력한 열처리도 규정된 범위 내에서 이루어집니다.
또한, 이 건조기는 클린룸 환경에 적합하며, Class 1–100 등급을 충족합니다. 낮은 가스 배출량과 층류형 공기 흐름 구조 덕분에 입자 생성이 전혀 없습니다. 실제로 이 건조기는 결함을 유발하지 않으며, 일정한 열처리 효과를 제공합니다.
왜 이 제품이 반도체 생산에 적합한가? IC 제조 공정에서 이 건조기는 속도와 정밀도가 요구되는 곳에 바로 위치해 있습니다. 설정된 온도에 빠르게 도달할 뿐만 아니라, 좁은 오차 범위 내에서 부드럽거나 강력한 열처리를 수행할 수 있습니다. 또한, 장시간에 걸쳐도 일관된 온도를 유지할 수 있습니다. 그 결과, 일관된 CD 제어가 가능해지고, 재작업이 줄어들며, 생산 효율도 안정적으로 유지됩니다.
또한, 빠르게 반응하고 필요한 부분만 가열하기 때문에 에너지 사용량도 줄어듭니다. 게다가 크기가 작아서 좁은 공간에서도 문제없이 설치될 수 있습니다.
제대로 작동시키기 위해 필요한 사항 설치는 간단하지만, 전용 전원 회로와 깨끗하고 건조한 압축 공기가 필요합니다. 이를 통해 배기 경로가 원활하게 작동할 수 있습니다. 또한, 포토레지스트의 특성에 맞게 설정을 조정하기 위해 짧은 테스트 주기를 가질 필요가 있습니다.
일단 설정이 완료되면, 이 건조기는 24/7으로 작동하며, 매번 일정한 열처리 효과를 제공할 것입니다.