ウェハのソルダーマスク乾燥

ファブ内では、はんだマスクの乾燥工程は一時停止ではなく、むしろ重要な工程です。もしこの工程で温度が変動すると、フォトレジストの特性が変わり、リソグラフィーの精度が低下してしまいます。私たちは、そのような状況に対応するためにこのシステムを開発しました。 内部で何が重要か ウェハ全体の温度を±0.1℃...