Mengapa kami beralih kepada penggunaan pemanas jenis inframerah di bilik bersih
Ketika bekerja di fasiliti pembuatan semikonduktor, “kebersihan” bukan sekadar satu matlamat – ia merupakan segalanya. Walaupun sedikit saja sisa kotoran boleh merosakkan keseluruhan produk yang dihasilkan. Untuk waktu yang lama, kaedah yang digunakan ialah menggunakan oven konvektif. Namun, sejujurnya, cara ini memerlukan tenaga yang banyak untuk memanaskan udara dan dinding bilik tersebut.
Itulah sebabnya kami beralih kepada pemanas jenis inframerah. Daripada memanaskan seluruh bilik, kita hanya perlu memanaskan permukaan substrat itu sendiri.
Kekuatan pemanasan langsung
Bayangkanlah berdiri di bawah sinar matahari pada hari yang sejuk. Anda tidak memerlukan suhu udara yang tinggi untuk merasa hangat; radiasi matahari yang masuk ke tubuh kita sudah cukup untuk memberikan rasa hangat. Inframerah juga berfungsi sama untuk wafer.
Dengan cara ini, kita dapat mengelakkan sumber pencemaran yang paling besar di bilik bersih. Selain itu, cara ini lebih efisien. Kita tidak perlu memanaskan kotak logam yang besar; tenaga dapat digunakan tepat di tempat yang diperlukan. Ini merupakan cara yang lebih baik untuk memenuhi syarat-syarat ketat berkaitan penggunaan bahan bebas plumbum dan mesra alam, tanpa perlu menggunakan bahan kimia yang berbahaya.
Cabaran yang perlu dihadapi
Namun, ia bukanlah sesuatu yang mudah. Biasanya, kita menggunakan lampu gelombang pendek atau sederhana kerana ia dapat memberikan panas dengan cepat. Ini menjimatkan masa dalam proses pengeluaran.
Tetapi ada cabarannya. Memandangkan haba yang dihasilkan sangat kuat, kita perlu memastikan jarak antara lampu dan wafer adalah tepat. Jika jaraknya terlalu dekat, ia akan menyebabkan kawasan tertentu menjadi terlalu panas, atau bahkan substrat menjadi rosak. Kita memerlukan sistem kawalan yang mampu bertindak pantas untuk mengelakkan suhu daripada melebihi had yang ditetapkan.
Kesan positif
Yang terbaik ialah saiz peralatan yang digunakan lebih kecil. Kita tidak perlu menggunakan blower yang besar atau lapisan penebat yang berat. Ini membolehkan stesen pemprosesan menggunakan ruang yang lebih sedikit. Pemanas inframerah juga lebih efisien dalam menukar tenaga elektrik kepada haba berbanding pemanas jenis gas atau resistif yang lama.
Pada akhirnya, kita menggunakan lebih sedikit tenaga untuk setiap wafer, dan prosesnya tetap bersih. Ini merupakan cara yang logik untuk digunakan di fasiliti pembuatan moden.