ファブ内では、はんだマスクの乾燥工程は一時停止ではなく、むしろ重要な工程です。もしこの工程で温度が変動すると、フォトレジストの特性が変わり、リソグラフィーの精度が低下してしまいます。私たちは、そのような状況に対応するためにこのシステムを開発しました。
内部で何が重要か
ウェハ全体の温度を±0.1℃以内に保つことが重要です。そうすれば、どの場所でも同じ条件で処理が行えます。石英・ハロゲンランプを使用することで、ソフトベイクやハードベイクの際に迅速かつ安定した反応が得られ、サイクルタイムを短縮しつつも制御を維持できます。チャンバーはクリーンルームクラス1～100に適合しており、空気の流れも粒子の発生を防ぐように設計されています。温度制御の再現性は数ミリ秒単位であり、これにより製品の品質が安定します。
24時間365日運用しても問題ない理由
24時間365日稼働させる場合、信頼性というのは単なる数値ではなく、実際の稼働スケジュールそのものです。このシステムは計画外の停止を一切せずに稼働し、部品も長寿命を誇り、メンテナンス間隔は5,000時間以上あります。中断が少ないため、生産性が安定し、予測可能な能力が得られます。また、精密な温度管理によって不十分な硬化や過剰な硬化を防ぎ、結果としてエネルギー消費を削減し、サイクルタイムを短縮できます。
必要な具体的な条件
設置には専用の排気装置と、厳格な電圧制御が必要です。ランプの寿命や安定性もこれに依存します。このシステムは標準的なウェハ取り扱いやSECS/GEMインターフェースを利用しますが、既存のシステムに組み込む場合は、調整のために少しの時間が必要になることがあります。事前に準備をしておけば、毎日正常に稼働し続けることができます。