Mengapa kami beralih ke penggunaan pemanas inframerah di fasilitas produksi semikonduktor
Ketika bekerja di pabrik semikonduktor, “kebersihan” bukan sekadar tujuan semata—itu merupakan hal yang sangat penting. Bahkan sedikit saja sisa kotoran bisa merusak seluruh hasil produksi. Selama ini, metode yang digunakan adalah oven konvektif. Namun, sejujurnya, cara ini membutuhkan banyak energi untuk menghangatkan udara dan dinding ruangan.
Itulah mengapa kami beralih ke pemanas inframerah. Alih-alih menghangatkan seluruh ruangan, kita hanya perlu menghangatkan permukaan substrat itu sendiri.
Keunggulan dari pemanasan langsung
Bayangkanlah berdiri di bawah sinar matahari pada hari yang dingin. Anda tidak memerlukan suhu udara yang tinggi agar merasa hangat; radiasi matahari langsung memanaskan tubuh Anda. Inframerah melakukan hal yang sama terhadap wafer. Karena kita tidak perlu menggerak-gerakkan udara, maka kita dapat menghindari sumber kontaminasi utama di fasilitas produksi. Selain itu, metode ini jauh lebih efisien. Anda tidak perlu menghabiskan biaya untuk memanaskan kotak logam besar; energi dialokasikan tepat ke tempat yang diperlukan. Ini merupakan cara yang lebih baik untuk memenuhi standar kelestarian lingkungan tanpa harus menggunakan bahan kimia berbahaya.
Masalah yang perlu diperhatikan
Namun, metode ini bukanlah sesuatu yang mudah digunakan. Biasanya, kami menggunakan lampu gelombang pendek atau sedang, karena lampu tersebut dapat menghasilkan panas secara cepat. Hal ini sangat membantu menghemat waktu dalam proses produksi.
Tapi ada satu masalah: karena panasnya sangat intens, kita perlu memperhatikan jarak antara lampu dan wafer dengan sangat teliti. Jika jaraknya terlalu dekat, maka akan terjadi titik-titik panas, atau bahkan substrat menjadi rusak. Kita membutuhkan sistem kontrol yang mampu bereaksi cepat untuk mencegah suhu berlebihan.
Dampak positifnya
Yang terbaik adalah ukuran peralatan yang digunakan menjadi lebih kecil. Kita tidak perlu menggunakan blower besar atau lapisan isolasi yang tebal, sehingga ruang yang dibutuhkan untuk stasiun pengeringan pun menjadi lebih kecil. Inframerah mampu mengubah energi listrik menjadi panas dengan lebih efektif dibandingkan pemanas berbasis gas atau resistansi. Pada akhirnya, kita menggunakan lebih sedikit energi per wafer, dan proses produksinya tetap bersih. Ini tentu saja merupakan cara yang lebih baik untuk pabrik modern.