Di area litografi, proses pemanasan yang dilakukan bukanlah sekadar cara untuk memanaskan permukaan wafer secara sederhana. Proses ini berfungsi untuk menstabilkan komposisi pelarut yang digunakan, membentuk struktur permukaan wafer, serta menentukan tingkat ketidakrataan permukaan wafer yang akan dialami sepanjang hari. Jika suhu panasnya berubah sebesar ±2°C, maka kualitas wafer akan menurun drastis. Kita menggunakan pemanas inframerah berfrekuensi sedang untuk memproses wafer, agar variasi suhu tersebut dapat dikurangi.
Yang penting secara teknis: Pemanas inframerah berfrekuensi sedang memanaskan lapisan fotoresist secara menyeluruh, bukan hanya permukaannya saja. Dengan demikian, proses pemanasan berlangsung lebih cepat tanpa penundaan. Kami mampu menjaga keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer pada kisaran ±0,1°C, dan tingkat repetibilitasnya mencapai ±0,05°C untuk setiap batch produksi. Emitter-nya terletak di balik lapisan kuarsa yang tertutup rapat, sehingga tidak ada partikel yang keluar dari pemanas tersebut. Badan pemanasnya juga dirancang untuk digunakan di lingkungan cleanroom kelas 1–100. Setiap permukaannya difungsikan sedemikian rupa sehingga jumlah partikel tetap konstan, bahkan saat proses berlangsung 24/7. Kontrol suhu dilakukan langsung pada permukaan wafer, bukan pada bagian pemanas itu sendiri.
Mengapa cara ini efektif dalam praktiknya: Dalam proses pemanasan fotoresist, diperlukan proses pembuangan pelarut yang cepat dan merata, serta proses pemanasan yang stabil agar suhu tetap konstan meskipun wafer bergerak. Sistem pemanas inframerah berfrekuensi sedang kami mampu mencapai suhu yang diinginkan dalam hitungan detik, sehingga setiap wafer mendapatkan kondisi termal yang sama. Dengan demikian, kontrol kualitas wafer menjadi lebih baik, jumlah wafer yang perlu diperbaiki berkurang, dan kapasitas produksi meningkat tanpa perlu memperhatikan fluktuasi suhu. Selain itu, energi yang digunakan juga berkurang, karena emitter mampu memfokuskan panas ke tempat yang diperlukan, dan massa termal yang rendah mengurangi kerugian energi saat sistem tidak aktif.
Beberapa catatan praktis: Pemanas inframerah berfrekuensi sedang cocok digunakan untuk lapisan organik pada silikon. Namun, pemanas ini sensitif terhadap perbedaan emisivitas pada logam atau lapisan dielektrik yang tebal. Perlu dilakukan uji coba singkat untuk menentukan pengaturan yang tepat. Instalasi pemanas ini membutuhkan pasokan listrik yang stabil serta antarmuka mekanis yang kuat dengan chuck wafer. Kesalahan penyesuaian sebesar sub-milimeter saja sudah cukup untuk mengganggu keseragaman suhu. Setelah disetel dengan benar, sistem ini akan beroperasi dengan minim perawatan. Saat waktunya untuk penggantian komponen, kita bisa mengatur jadwalnya. Tidak perlu repot-repot memperbaiki sistem di tengah malam.