בחדר הליתוגרפיה, תהליך החימום אינו רק דרך לחימום זמני של החומרים. הוא מאפשר קביעה מדויקת של ריכוז החומרים המומסים, קביעת ערכי ה-CD, וכן קביעת רמת החוסר אחידות בקצוות הקווים – ערכים שישפיעו על התהליך לאורך כל היום. אם טמפרטורת החימום יורדת ב-±2°C, חלה ירידה מהירה באיכות המוצרים. אנו ייצרנו מחמם בגלי אינפרא-אדום לצורך עיבוד הוופרים, כדי להפחית את השינויים האלו.
מה חשוב מבחינה טכנית? מחמם בגלי אינפרא-אדום מחמם את שכבת הפוטורזיסט באופן וולומטרי, ולא רק את השטח שעליו היא נמצאת. כך ניתן להשיג עלייה מהירה בטמפרטורה, עם עיכוב מינימלי. אנו שומרים על אחידות בטמפרטורה ברמה של ±0.1°C בכל שטח הוופר, ועל חזרתיות ברמה של ±0.05°C בין תהליכי עיבוד שונים. המחמם נמצא מאחורי מעטפת קוורץ אטומה – אין סלילים חשופים שעלולים לגרום להפרשי אוויר או להפרשת חלקיקים. גוף המחמם מתאים לשימוש בחדרים נקיים מסוג Class 1–100, וכל המשטחים שלו מטופלים כך שרמת החלקיקים נשארת קבועה, גם בתהליכי עיבוד 24/7. שליטה בטמפרטורה נעשית על גבי הוופר עצמו, ולא על גבי גוף המחמם.
למה זה עובד בפועל? בתהליך חימום הפוטורזיסט, יש צורך שהחומרים המומסים יסולקו במהירות ובאופן אחיד, ולאחר מכן יהיה חימום יציב שישמור על הטמפרטורה הרצויה בזמן שהוופר נע. מערכת החימום שלנו מגיעה לטמפרטורה הרצויה תוך שניות, כך שכל ופר יקבל את אותו סט של תנאי חימום. התוצאה היא שליטה טובה יותר ב-CD, פחות צורך בעיבוד מחדש, וקצב עיבוד גבוה יותר, ללא צורך בשליטה מתמדת בטמפרטורה. כמו כן, חוסכים אנרגיה, מכיוון שהמחמם מרכז את החום במקומות הנדרשים, והמסה התרמית הנמוכה מפחיתה את האובדנים בזמן ההמתנה.
כמה הערות פרקטיות: מחמם בגלי אינפרא-אדום מתאים לשימוש עם סרטים אורגניים על סיליקון, אך הוא רגיש להבדלים ברמת הפלט של חומרים על מתכת או שכבות דיאלקטריות עבות. יש לבצע בדיקות קצרות כדי לקבוע את ההגדרות הנכונות ולוודא שהמערכת עובדת כראוי. ההתקנה דורשת אספקת חשמל נקיה ואינטרפייס מכני איכותי עם הוופר – סטייה של פחות ממילימטר אחד יכולה לפגוע באחידות החימום. לאחר ההתקנה, המערכת עובדת עם מינימום תחזוקה. כאשר יש צורך בהחלפת המחמם, ניתן לתכנן זאת מראש – אין צורך להתערב באמצע הלילה.