<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Загартування on Pro Quartz Infrared Heating</title>
		<link>http://quartz-ir-heat-pro.com/uk/tags/%D0%B7%D0%B0%D0%B3%D0%B0%D1%80%D1%82%D1%83%D0%B2%D0%B0%D0%BD%D0%BD%D1%8F/</link>
		<description>Recent content in Загартування on Pro Quartz Infrared Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>uk</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 24 Jun 2026 03:56:11 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://quartz-ir-heat-pro.com/uk/tags/%D0%B7%D0%B0%D0%B3%D0%B0%D1%80%D1%82%D1%83%D0%B2%D0%B0%D0%BD%D0%BD%D1%8F/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Інфрачервона лампа для анілювання напівпровідників</title>
				<link>http://quartz-ir-heat-pro.com/uk/posts/semiconductor-annealing-infrared-lamp/</link>
				<pubDate>Wed, 24 Jun 2026 03:56:11 +0800</pubDate>
				<guid>http://quartz-ir-heat-pro.com/uk/posts/semiconductor-annealing-infrared-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://quartz-ir-heat-pro.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Інфрачервона лампа для анілювання напівпровідників&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На самому заводі-виробнику планувальник процесів не зупиняє роботу при поломці лампи. Етапи обробки – м’яке висушування, жорстке висушування та додаткове висушування після експозиції – відбуваються за фіксованими температурними параметрами. Якщо джерело тепла втрачає свою ефективність, це призводить до проблем: змінюється профіль фотополімеру, порушуються критичні параметри, що в кінцевому підсумку призводить до відхилень у якості продукції.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Що є важливим з технічної точки зору&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Ми створили інфрачервону лампу для обробки напівпровідників на основі короткохвильового інфрачервоного випромінювача, розташованого у кварцовій оболонці. Цей варіант є оптимальним, коли потрібна швидка реакція та стабільний спектральний вихід протягом усіх циклів обробки. Ціллю є досягнення температурної однорідності на рівні ±0,1°C на рівні пластинки; цього досягається за допомогою каліброваної системи ламп та контролю температури з закритим циклом, який забезпечує підтримку заданої температури без її перевищення.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
