Secagem da máscara de solda para wafer

Mon, 29 Jun 2026 06:48:35 +0800

Na linha de produção, a etapa de secagem da máscara de solda não é uma pausa no processo, mas sim um momento crítico. Se houver variações na temperatura durante o processo de secagem, o perfil do fotorresist sofre alterações, o que afeta negativamente a qualidade do produto final. Construímos o sistema para lidar com essa realidade.

O que é importante por trás dos panos: Garantimos uma uniformidade térmica de ±0,1°C em todo o wafer, de modo que cada área receba a mesma quantidade de calor. As lâmpadas de quartzo-halogênio oferecem resposta rápida e estável, permitindo ciclos de secagem mais curtos, sem perder o controle sobre as condições de processamento. A câmara é projetada para ambientes de classe 1–100, e todos os canais de ar são projetados para evitar a geração de partículas. A repetibilidade do controle de temperatura é de apenas alguns milissegundos, o que garante resultados consistentes de linha para linha e de lote para lote.

Solda on Pro Quartz Infrared Heating

Secagem da máscara de solda para wafer