Sensor IR de precisão para wafer

Mon, 01 Jun 2026 13:05:08 +0800

Na linha, o wafer atinge a estação de bake com um orçamento térmico extremamente restrito. O soft bake define o perfil do fotoresiste. O hard bake fixa a fidelidade do padrão. Uma deriva de alguns décimos de grau, um ponto quente invisível, e suas CDs começam a variar. O estresse da pellicle se desloca. Defeitos ultrapassam a inspeção. Então, na manhã seguinte, a revisão do rendimento aponta diretamente para a não uniformidade da temperatura.

Construímos um sensor IR de precisão para o wafer, a fim de interromper essa cadeia de reações na origem. Ele mede diretamente a temperatura da superfície do wafer, in situ, com a resolução e repetibilidade exigidas pelas etapas de bake na litografia. Sem suposições baseadas nas paredes da câmara. Sem extrapolações a partir de termopares que detectam o aquecedor, não o resist. Apenas um sinal limpo e estável, confiável ciclo após ciclo.

Precisão on Pro Quartz Infrared Heating

Sensor IR de precisão para wafer