Drogen van de soldermask voor de wafer

Mon, 29 Jun 2026 06:48:35 +0800

Op de productielijn is het drogen van de soldermask geen tijdelijke pauze, maar een essentieel onderdeel van het proces. Als er afwijkingen optreden tijdens het drogen, verandert ook het profiel van de fotoresist. Hierdoor kan de lithografieproces worden beïnvloed. We hebben het systeem ontworpen om dit probleem te voorkomen.

Wat belangrijk is voor het functioneren van het systeem We zorgen ervoor dat de temperatuur over het hele waferoppervlak binnen ±0,1°C blijft. Op deze manier krijgt elk gebied dezelfde thermische omstandigheden. Kwarts-halogeenlampen zorgen voor een snelle en stabiele reactie bij zowel milde als strenge droogingsprocedures. Dit bevordert een kortere cyclusduur zonder dat de controle verloren gaat. De kamer is geschikt voor een zuiverheidsniveau van Class 1–100. Alle luchtpaden zijn zo ingericht dat er geen stofdeeltjes ontstaan. De nauwkeurigheid van de temperatuurregeling ligt op een niveau van enkele milliseconden. Dit zorgt ervoor dat de resultaten consistent blijven, van productie tot productie en van batch tot batch.

Masker on Pro Quartz Infrared Heating

Drogen van de soldermask voor de wafer