Drogen on Pro Quartz Infrared Heating

HEATER VOOR DROGEN VAN MEMS SENORSCHILDFLEN

Sat, 18 Jul 2026 03:43:12 +0800

Laten we het hebben over het breken van lampen in MEMS-droogapparaten.
Als je een MEMS-apparaat met hoge belasting gebruikt, ken je vast dit nachtmerriescenario: de infraroodlamp breekt.
Het gaat niet alleen om de stilstand die dit met zich meebrengt – dat is al vreselijk genoeg – maar ook om de chaos die ontstaat. Als een kwartsbuis breekt, vallen er scherven glas en wolframdeposiettjes op de sensorkwalen. Eén breuk betekent dat je hele partij producten onbruikbaar wordt.

Drogen van de soldermask voor de wafer

Mon, 29 Jun 2026 06:48:35 +0800

Op de productielijn is het drogen van de soldermask geen tijdelijke pauze, maar een essentieel onderdeel van het proces. Als er afwijkingen optreden tijdens het drogen, verandert ook het profiel van de fotoresist. Hierdoor kan de lithografieproces worden beïnvloed. We hebben het systeem ontworpen om dit probleem te voorkomen.

Wat belangrijk is voor het functioneren van het systeem We zorgen ervoor dat de temperatuur over het hele waferoppervlak binnen ±0,1°C blijft. Op deze manier krijgt elk gebied dezelfde thermische omstandigheden. Kwarts-halogeenlampen zorgen voor een snelle en stabiele reactie bij zowel milde als strenge droogingsprocedures. Dit bevordert een kortere cyclusduur zonder dat de controle verloren gaat. De kamer is geschikt voor een zuiverheidsniveau van Class 1–100. Alle luchtpaden zijn zo ingericht dat er geen stofdeeltjes ontstaan. De nauwkeurigheid van de temperatuurregeling ligt op een niveau van enkele milliseconden. Dit zorgt ervoor dat de resultaten consistent blijven, van productie tot productie en van batch tot batch.

Infraroodverwarmer voor het drogen van wijfjes

Sat, 27 Jun 2026 04:39:56 +0800

Op de productielijn is een wafer die uit de zuivere omgeving komt nooit ‘gewoon vochtig’. Het is eerder een risico. Overblijvend vocht kan later leiden tot microbruggen en andere problemen – precies op het moment dat je de geometrie van de fotoresist wilt behouden.

Conventionele droogmethoden kunnen thermische verschillen over het oppervlak van de wafer veroorzaken. Deze verschillen blijven niet beperkt tot theorieën; ze leidden tot variaties in de dikte van de lijnen op het oppervlak van de wafer. We hebben speciale infrarode verwarmers ontworpen om deze variaties uit te bannen.