http://quartz-ir-heat-pro.com/ms/tags/ombak/ Recent content in Ombak on Pro Quartz Infrared Heating Hugo ms Thu, 18 Jun 2026 04:08:13 +0800 http://quartz-ir-heat-pro.com/ms/posts/medium-wave-infrared-heater-for-wafer/ Thu, 18 Jun 2026 04:08:13 +0800 http://quartz-ir-heat-pro.com/ms/posts/medium-wave-infrared-heater-for-wafer/ <p><img src="http://quartz-ir-heat-pro.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png" alt="Pemanas inframerah gelombang sederhana untuk wafer"></p> <p>Di bilik proses litografi, proses pemanasan tersebut bukan sekadar cara untuk memanaskan bahan tersebut secara sederhana. Proses ini bertujuan untuk menstabilkan komposisi pelarut yang digunakan, membentuk struktur cakera padat dengan betul, serta menentukan tahap ketidakrataan permukaan cakera padat tersebut sepanjang hari. Jika suhu pemanasan berubah sebanyak ±2°C, kualiti cakera padat akan merosot dengan cepat. Kami telah mencipta pemanas inframerah gelombang sederhana untuk memproses wafer, agar variasi suhu dapat dikurangkan.</p> <p><strong>Apa yang penting dari segi teknikalnya</strong><br> Pemanas inframerah gelombang sederhana memanaskan lapisan fotoresist secara menyeluruh, bukan hanya pada permukaannya sahaja. Dengan cara ini, proses pemanasan berlaku lebih cepat tanpa kelewatan. Kami dapat mengekalkan keseragaman suhu pada tahap ±0.1°C di seluruh kawasan wafer, dan konsistensi suhu antara setiap sesi pemprosesan pada tahap ±0.05°C. Pelindung pemanas terletak di belakang pembungkus kuarsa yang kedap udara – tiada bahagian yang boleh menyebabkan pelepasan gas atau zarah-zarah berbahaya. Badan pemanas juga sesuai digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100. Setiap permukaan pemanas dilindungi supaya jumlah zarah tetap stabil, walaupun semasa proses pemprosesan berlangsung 24/7. Kawalan suhu dilakukan pada tahap wafer itu sendiri, bukan pada pemanas itu sendiri.</p>