Pemanas inframerah gelombang sederhana untuk wafer
Di bilik proses litografi, proses pemanasan tersebut bukan sekadar cara untuk memanaskan bahan tersebut secara sederhana. Proses ini bertujuan untuk...
Pemegang lampu seramik untuk pemanas fab
Di lantai fab, anda tahu betapa cepatnya keadaan boleh menjadi tidak terkawal. Peralihan 0.5°C semasa photoresist soft bake sudah cukup untuk...
Jarak keselamatan untuk pemanasan wafer
Di lantai fabrik, jurang antara wafer dan pemanas bukanlah nota kaki—ia adalah parameter proses yang tidak boleh diabaikan. Biarkan jarak itu...
Pemasa untuk ketuhar pengering wafer
On the fab floor, anda tidak boleh menganggap tingkap pembakaran yang terlepas atau pergeseran masa pengeringan sebagai isu dokumentasi. Anda anggap...
Lampu bakar atmosfera terkawal
On the fab floor, soft bake and hard bake bukan sekadar “langkah pemanasan.” Ia adalah satu keseimbangan yang sangat kritikal. Perbezaan 2°C boleh...
Sensor IR ketepatan untuk wafer
Di dalam barisan, wafer menghentam stesen pembakaran dengan bajet terma yang sangat tipis. Soft bake menetapkan profil photoresist. Hard bake...