Sensore IR di precisione per wafer

Mon, 01 Jun 2026 13:05:08 +0800

On line, il wafer raggiunge la stazione di bake con un budget termico estremamente limitato. Il soft bake definisce il profilo del photoresist. L’hard bake fissa la fedeltà del pattern. Qualche decimo di grado di deriva, un punto caldo invisibile, e i tuoi CD (Critical Dimensions) iniziano a variare. Lo stress del pellicola si sposta. Difetti sfuggono all’ispezione. La mattina successiva, la revisione del rendimento indica chiaramente la non uniformità di temperatura come causa principale.
Abbiamo sviluppato un sensore IR di precisione per il wafer, per interrompere questa catena di eventi alla radice. Misura direttamente la temperatura della superficie del wafer, in situ, con la risoluzione e la ripetibilità richieste dalle fasi di bake in litografia. Nessuna stima basata sulle pareti della camera. Nessuna estrapolazione da termocoppie che misurano il riscaldatore e non il resist. Solo un segnale pulito e stabile su cui si può contare ciclo dopo ciclo.

Precisione on Pro Quartz Infrared Heating

Sensore IR di precisione per wafer