IR on Pro Quartz Infrared Heating

Estremità in ceramica per emittente IR

Wed, 22 Jul 2026 04:22:22 +0800

Perché i vostri emettitori IR hanno bisogno di cover migliori
Se avete trascorso del tempo in un impianto di produzione di semiconduttori, sapete che è proprio la precisione nel riscaldamento a determinare se tutto funziona correttamente o meno. Tutti noi ci affidiamo agli emettitori IR per mantenere stabile la temperatura dei wafer, ma c’è un problema ricorrente: il punto in cui l’elettrodo di riscaldamento entra in contatto con i cavi elettrici. È proprio lì che il sistema tende a guastarsi. Ecco perché utilizziamo delle cover in ceramica: possiamo considerarle una sorta di “barriera termica”. Non solo mantengono gli elementi al loro posto, ma impediscono anche al calore di diffondersi nei cavi elettrici, evitando così danni al sistema.

Riflettore in alluminio per lampada IR

Sun, 12 Jul 2026 09:31:44 +0800

Come fermare la formazione di polvere: come ottenere un riscaldamento a infrarossi in una sala pulita di classe 100
Se avete mai provato ad utilizzare un riscaldatore a infrarossi tradizionale in una sala pulita di classe 100, sapete bene quanto possa essere problematico. Non appena si avvia il riscaldatore, le vostre lastre o lenti vengono danneggiate. Perché? Perché la maggior parte dei riscaldatori è, in sostanza, una fonte di particelle nocive. Queste particelle possono causare danni ai vostri prodotti.

Sensore IR di precisione per wafer

Mon, 01 Jun 2026 13:05:08 +0800

On line, il wafer raggiunge la stazione di bake con un budget termico estremamente limitato. Il soft bake definisce il profilo del photoresist. L’hard bake fissa la fedeltà del pattern. Qualche decimo di grado di deriva, un punto caldo invisibile, e i tuoi CD (Critical Dimensions) iniziano a variare. Lo stress del pellicola si sposta. Difetti sfuggono all’ispezione. La mattina successiva, la revisione del rendimento indica chiaramente la non uniformità di temperatura come causa principale.
Abbiamo sviluppato un sensore IR di precisione per il wafer, per interrompere questa catena di eventi alla radice. Misura direttamente la temperatura della superficie del wafer, in situ, con la risoluzione e la ripetibilità richieste dalle fasi di bake in litografia. Nessuna stima basata sulle pareti della camera. Nessuna estrapolazione da termocoppie che misurano il riscaldatore e non il resist. Solo un segnale pulito e stabile su cui si può contare ciclo dopo ciclo.