Pemanas inframerah gelombang sedang untuk wafer

Thu, 18 Jun 2026 04:08:13 +0800

Di area litografi, proses pemanasan yang dilakukan bukanlah sekadar cara untuk memanaskan permukaan wafer secara sederhana. Proses ini berfungsi untuk menstabilkan komposisi pelarut yang digunakan, membentuk struktur permukaan wafer, serta menentukan tingkat ketidakrataan permukaan wafer yang akan dialami sepanjang hari. Jika suhu panasnya berubah sebesar ±2°C, maka kualitas wafer akan menurun drastis. Kita menggunakan pemanas inframerah berfrekuensi sedang untuk memproses wafer, agar variasi suhu tersebut dapat dikurangi.

Yang penting secara teknis: Pemanas inframerah berfrekuensi sedang memanaskan lapisan fotoresist secara menyeluruh, bukan hanya permukaannya saja. Dengan demikian, proses pemanasan berlangsung lebih cepat tanpa penundaan. Kami mampu menjaga keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer pada kisaran ±0,1°C, dan tingkat repetibilitasnya mencapai ±0,05°C untuk setiap batch produksi. Emitter-nya terletak di balik lapisan kuarsa yang tertutup rapat, sehingga tidak ada partikel yang keluar dari pemanas tersebut. Badan pemanasnya juga dirancang untuk digunakan di lingkungan cleanroom kelas 1–100. Setiap permukaannya difungsikan sedemikian rupa sehingga jumlah partikel tetap konstan, bahkan saat proses berlangsung 24/7. Kontrol suhu dilakukan langsung pada permukaan wafer, bukan pada bagian pemanas itu sendiri.

Sedang on Pro Quartz Infrared Heating

Pemanas inframerah gelombang sedang untuk wafer