Pengeringan on Pro Quartz Infrared Heating

Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS

Sat, 18 Jul 2026 03:43:12 +0800

Ayo kita bicarakan tentang masalah kerusakan lampu dalam proses pengeringan MEMS. Jika Anda mengoperasikan mesin MEMS yang bekerja dengan beban tinggi, Anda pasti tahu betapa mengerikannya situasinya. Lampu inframerah bisa saja rusak kapan saja.

Masalahnya bukan hanya masalah waktu henti produksi saja—meskipun itu sudah cukup menyebalkan. Yang lebih parah adalah kekacauan yang terjadi setelah lampu tersebut rusak. Ketika tabung kuarsa rusak, serpihan kaca dan endapan tungsten akan jatuh ke permukaan wafer sensor. Dengan demikian, seluruh produk yang dihasilkan menjadi tidak berguna.

Pengeringan lapisan solder mask pada wafer

Mon, 29 Jun 2026 06:48:35 +0800

Di lini produksi, proses pengeringan lapisan solder mask bukanlah tahap yang bisa diabaikan—melainkan merupakan bagian penting dari proses produksi. Jika proses pengeringan tidak berjalan sesuai rencana, profil fotorezist akan berubah, sehingga kualitas hasil litografi pun akan menurun. Kami merancang sistem ini untuk mengatasi masalah tersebut.

Apa yang penting dalam sistem ini? Kami memastikan agar suhu di seluruh permukaan wafer tetap stabil, pada kisaran ±0,1°C. Dengan demikian, setiap bagian wafer mendapatkan kondisi termal yang sama. Lampu kuarsa-halogen memberikan respons yang cepat dan stabil untuk proses pengeringan, sehingga waktu siklus produksi dapat dikurangi tanpa kehilangan kontrol atas prosesnya. Ruang produksi ini dirancang untuk standar cleanroom kelas 1–100, dan setiap saluran udara dirancang sedemikian rupa sehingga polusi akibat partikel tetap nol. Tingkat presisi pengendalian suhu mencapai milidetik, sehingga hasil produksi tetap konsisten dari satu produksi ke produksi lainnya.

Pemanas inframerah untuk mengeringkan wafer

Sat, 27 Jun 2026 04:39:56 +0800

Di area produksi, wafer yang keluar dari proses pembersihan tidaklah “basah” saja. Kelembapan yang tersisa merupakan masalah yang bisa timbul nantinya, berupa pembentukan struktur mikro atau kerusakan pola pada permukaan wafer—pada saat kita sedang berusaha mempertahankan bentuk geometri fotoresist tersebut.

Proses pengeringan konvensional dapat menyebabkan adanya gradien suhu di seluruh permukaan wafer. Gradien suhu ini bukanlah hal yang dapat diabaikan; ia akan berubah menjadi variasi ketebalan garis pada permukaan wafer. Kami menggunakan pemanas inframerah untuk menghilangkan faktor variabel tersebut.