Pemanas inframerah gelombang sedang untuk wafer
Di area litografi, proses pemanasan yang dilakukan bukanlah sekadar cara untuk memanaskan permukaan wafer secara sederhana. Proses ini berfungsi...
Penahan lampu keramik untuk pemanas fab
Di lantai pabrik, Anda tahu seberapa cepat kondisi bisa berubah. Pergeseran sebesar 0,5°C selama proses soft bake photoresist sudah cukup untuk...
Jarak aman untuk pemanasan wafer
Di lantai pabrik, celah antara wafer dan heater bukan sekadar catatan kaki—itu adalah parameter proses yang tidak bisa diabaikan. Jika jarak tersebut...
Timer untuk oven pengering wafer
Di lantai produksi, Anda tidak bisa menganggap jendela pemanggangan yang terlewat atau perubahan waktu pengeringan sebagai masalah administrasi. Anda...
Lampu pemanggang atmosfer terkontrol
Di lantai pabrik, soft bake dan hard bake bukan sekadar “langkah pemanasan.” Mereka seperti berjalan di atas tali. Perubahan 2°C bisa menggeser...
Sensor IR presisi untuk wafer
Di jalur produksi, wafer mencapai stasiun pemanggangan dengan anggaran termal yang sangat tipis. Soft bake menentukan profil photoresist. Hard bake...