सुखाना on Pro Quartz Infrared Heating

एमईएमएस सेंसर वेफर को सुखाने हेतु हीटर

Sat, 18 Jul 2026 03:43:12 +0800

चलिए, MEMS सूखने की प्रक्रिया में लैंपों के टूटने के बारे में बात करते हैं।
यदि आप उच्च-लोड वाली MEMS लाइनों का उपयोग कर रहे हैं, तो आपको इस समस्या का अंदाजा होगा। इन्फ्रारेड लैंप टूट जाते हैं।
यह सिर्फ बंद होने की समस्या ही नहीं है… बल्कि इससे बहुत गंदगी भी फैल जाती है। जब क्वार्ट्ज ट्यूब टूट जाती है, तो काँच के टुकड़े एवं टंगस्टन के कण सेंसर वेफरों पर गिर जाते हैं… ऐसी स्थिति में पूरा बैच बर्बाद हो जाता है।
हमने इस समस्या को रोकने के तरीके खोजने में बहुत समय लगाया है।
आखिर ऐसा क्यों होता है?
आम तौर पर, ऐसा थर्मल शॉक या अत्यधिक तापमान के कारण होता है। जब भारी लोड लगता है, तो फिलामेंट एवं ट्यूब के छोरों के बीच का तापमान अंतर बहुत अधिक हो जाता है… जिससे यांत्रिक तनाव पैदा होता है।
इस समस्या को दूर करने हेतु, हम उच्च-शुद्धता वाले सिंथेटिक क्वार्ट्ज का उपयोग करते हैं… ऐसा करने से तापमान में होने वाले अचानक परिवर्तनों का सामना आसानी से किया जा सकता है। हमने ट्यूबों की दीवारों की मोटाई एवं गैस दबाव को भी ऐसे ही समायोजित किया है, ताकि ट्यूबें सामान्य परिस्थितियों में भी टूटने से बच सकें।
सुरक्षा उपाय
हम इस समस्या को चांस पर नहीं छोड़ते।
हमारे लैंपों में सुरक्षात्मक उपकरण भी हैं… ऐसे उपकरण लैंप टूटने पर उसके टुकड़ों को रोकने में मदद करते हैं… ताकि वे उत्पादों पर न गिरें।
इसके अलावा, हम ऐसे कनेक्टरों का उपयोग करते हैं जो कंपन के प्रभाव को सह सकें… क्योंकि कंपन के कारण विस्फोट हो सकता है… इसलिए हमने कनेक्शनों को मजबूत बनाया है।
जिस बारे में आपको जानना आवश्यक है…
वास्तव में, उच्च-वाटेज वाले लैंप MEMS सूखने की प्रक्रिया में बहुत उपयोगी हैं… लेकिन ये बहुत अधिक ऊष्मा उत्पन्न करते हैं।
इन्हें किसी भी सामान्य रैक में रखना संभव नहीं है… आपके कूलिंग सिस्टम को ठीक से डिज़ाइन किया जाना आवश्यक है… ताकि लैंपों से उत्पन्न ऊष्मा को दूर किया जा सके। यदि कूलिंग सिस्टम ठीक से काम न करे, तो सीलें खराब हो जाती हैं… और ऐसी स्थिति में लीकेज एवं विफलता का जोखिम बढ़ जाता है।
हम ऐसे लैंपों को 24/7 चलने वाले फैक्ट्रियों में ही इस्तेमाल करते हैं… हम क्वार्ट्ज की गुणवत्ता एवं सर्किटों की स्थिरता पर बहुत ध्यान देते हैं… ताकि आपको अपने उत्पादों के बारे में चिंता करने की आवश्यकता ही न पड़े… एवं लाइन लगातार काम करती रहे।

वेफर के लिए सोल्डर मास्क को सूखना।

Mon, 29 Jun 2026 06:48:34 +0800

फैब फ्लोर पर, सोल्डर मास्क को सुखाने की प्रक्रिया कोई विराम नहीं है… बल्कि यह तो एक महत्वपूर्ण चरण है। यदि इस प्रक्रिया में कोई त्रुटि हो जाए, तो फोटोरेजिस्ट की संरचना में बदलाव हो जाता है, और लिथोग्राफी प्रक्रिया प्रभावित हो जाती है। हमने इसी वास्तविकता को ध्यान में रखकर ही यह सिस्टम विकसित किया है।

वास्तव में क्या महत्वपूर्ण है?
हम वेफर पर तापमान को ±0.1°C के भीतर ही बनाए रखते हैं… ताकि हर जगह पर समान तापमान ही बना रहे। क्वार्ट्ज-हैलोजन लैंप, “सॉफ्ट बेक” एवं “हार्ड बेक” प्रक्रियाओं हेतु तेज एवं स्थिर प्रतिक्रिया देते हैं… जिससे साइकल टाइम कम हो जाता है, बिना नियंत्रण खोए। चैंबर को क्लीनरूम क्लास 1–100 के अनुरूप ही डिज़ाइन किया गया है… एवं हर एयर पाथ को ऐसे ही डिज़ाइन किया गया है कि कोई भी कण न बने। तापमान नियंत्रण की सटीकता कुछ ही मिलीसेकंड में ही हो जाती है… जिससे प्रत्येक बार परिणाम सुसंगत रहते हैं।

वेफर सुखाने हेतु इन्फ्रारेड हीटर

Sat, 27 Jun 2026 04:39:56 +0800

फैब फ्लोर पर, क्लीन रूम से निकलने वाला वेफर कभी भी “नम” ही नहीं होता। ऐसी स्थिति तो एक खतरा ही है। शेष रहने वाली नमी, बाद में “माइक्रो-ब्रिज” एवं “पैटर्न के विघटन” जैसी समस्याओं का कारण बनती है… ठीक उसी समय, जब हमें फोटोरेसिस्ट की संरचना को बनाए रखने की आवश्यकता होती है।
पारंपरिक विधियों से सूखने पर वेफर पर तापीय अंतर उत्पन्न हो जाता है… ऐसे अंतर केवल सैद्धांतिक ही नहीं होते… बल्कि वे वेफर की सतह पर ऊँचाई-चौड़ाई में असमानताओं का कारण बन जाते हैं। हमने ऐसी समस्याओं से बचने हेतु इन्फ्रारेड हीटरों का उपयोग किया।
तकनीकी दृष्टि से, वास्तव में क्या महत्वपूर्ण है?
हमारे शॉर्ट-वेव इन्फ्रारेड एमिटर, वेफर की सतह पर उत्कृष्ट समानता प्रदान करते हैं… एवं फोटोरेसिस्ट को गर्म करने के दौरान तापमान को ±0.1°C के भीतर ही बनाए रखा जाता है।
क्वार्ट्ज-हैलोजन स्रोत, ऊर्जा को सीधे एवं तेज़ी से प्रदान करता है… इसलिए तापीय प्रतिक्रिया मिलीसेकंड में ही मापी जा सकती है… मिनटों में नहीं। पुनरावृत्ति की संभावना भी अच्छी है… क्योंकि यह नियंत्रण चक्र में ही शामिल है।
प्रत्येक ज़ोन में “क्लोज्ड-लूप पायरोमेट्री” उपलब्ध है… PID ऑटो-ट्यूनिंग, एवं NIST मानकों के अनुरूप कैलिब्रेशन कर्व भी उपलब्ध हैं। परिणाम? एक ऐसी प्रक्रिया, जिस पर हम भरोसा कर सकते हैं… बार-बार।
यह हमारी प्रक्रियाओं के अनुकूल क्यों है?
लिथोग्राफी उपकरणों में, हीटर को क्लास 1–100 वाले वातावरण में ही उपयोग में लाया जाता है… ऐसी स्थिति में कोई कण ही नहीं उत्पन्न होता… जिससे दोषों की संख्या कम रहती है, एवं उत्पादन बढ़ जाता है।
ऊर्जा की खपत भी कम हो जाती है… क्योंकि गर्मी केवल लक्ष्य वस्तु पर ही लगती है… कमरे में नहीं। तेज़ गर्म होने की प्रक्रिया के कारण चक्र-समय भी कम हो जाता है… बिना तापीय बजट पर कोई प्रभाव पड़े।
फोटोरेसिस्ट की संरचना हमेशा समान ही रहती है… चाहे वह पहला वेफर हो या हजारवाँ वेफर… इससे पुनर्कार्य एवं अपशिष्ट उत्पादन में कमी आ जाती है।
व्यावहारिक विवरण:
वेफर के मार्ग पर सटीक संरेखण आवश्यक है… एवं ऊर्जा-प्रवाह भी स्थिर होना चाहिए। वोल्टेज में उतार-चढ़ाव एवं EMI, नियंत्रण चक्र को प्रभावित करते हैं… हमने ऐसी समस्याओं से बचने हेतु विशेष फिल्टर्ड फीड सिस्टम का उपयोग किया है।
एक बार संरेखण हो जाने के बाद, हीटर 24/7 काम करता है… एवं इसकी देखभाल भी कम ही होती है। लेकिन एमिटर का जीवनकाल सीमित है… इसलिए 5,000 घंटों के बाद ही इसकी जगह नया एमिटर लगाना आवश्यक है… ताकि समानता बनी रहे।