Mittelwellen Infrarotheizer für Wafer

Thu, 18 Jun 2026 04:08:13 +0800

Auf der Lithografieebene ist das Erhitzen des Fotolithigs keine einfache Vorbereitungsmaßnahme – es dient dazu, das Lösungsmittelprofil festzulegen, den „CD-Budget“ zu bestimmen sowie die Rauheit der Schichtkanten zu regulieren. Wenn die Temperatur um ±2°C abweicht, wird das Ergebnis schlechter – es stapeln sich die Ausschussstücke. Deshalb haben wir einen Mittelwellen-Infrarotheizer entwickelt, um diese Unregelmäßigkeiten auszuschließen.

Was technisch wichtig ist: Mittelwellen-Infrarotstrahlen erhitzen den Fotolithig im gesamten Volumen – nicht nur die Oberfläche. Dadurch entsteht eine schnellere Temperaturerhöhung mit weniger Verzögerung. Wir halten die Temperatur auf der aktiven Fläche bei ±0,1°C konstant und die Wiederholgenauigkeit bei ±0,05°C. Die Heizelemente befinden sich hinter einer versiegelten Quarzkapsel – es gibt keine offenen Spulen, die Gase freisetzen oder Partikel abgeben könnten. Der Heizkörper ist für Reinräume der Klasse 1–100 geeignet, und alle Oberflächen sind passiviert, sodass die Anzahl der Partikel auch bei 24/7-Betrieb konstant bleibt. Die Temperaturregelung erfolgt direkt auf der Waferoberfläche – nicht am Heizblock selbst.

Welle on Pro Quartz Infrared Heating

Mittelwellen Infrarotheizer für Wafer