Trocknung der Lötmaske für Wafer

Mon, 29 Jun 2026 06:48:35 +0800

In der Fertigungshalle ist die Trocknungsphase der Lötmaske keine Pause – sie ist vielmehr ein entscheidender Schritt im Produktionsprozess. Wenn die Temperatur nicht genau kontrolliert wird, ändert sich das Profil des Fotorezysts, was wiederum zu Problemen bei der Lithografie führt. Wir haben das System entsprechend diesen Anforderungen konstruiert.

Was wirklich wichtig ist: Wir halten die Temperatur auf dem Wafer auf einem Niveau von ±0,1 °C – dadurch erhält jede Stelle des Wafer denselben thermischen Input. Quarzhalogenlampen sorgen für eine schnelle und stabile Temperaturregulierung, wodurch die Zykluszeit verkürzt werden kann, ohne dass die Kontrolle über den Prozess verloren geht. Die Kammer ist für Reinräume der Klasse 1–100 geeignet, und alle Luftwege sind so gestaltet, dass keine Partikel entstehen. Die Genauigkeit der Temperaturkontrolle liegt im einstelligen Millisekundenbereich – das sorgt dafür, dass die Ergebnisse von Charge zu Charge konstant bleiben.

Maske on Pro Quartz Infrared Heating

Trocknung der Lötmaske für Wafer