در کف کارخانه، مراحل نرمپزی (soft bake) و سختپزی (hard bake) صرفاً «مراحل حرارتی» نیستند. بلکه مثل عبور از روی ریسمان باریک هستند. تغییر ۲ درجه سانتیگراد میتواند ابعاد بحرانی (CD) را از هدف خارج کند، و اگر فرایند پخت باعث پراکندگی ذرات شود، میتوانید کاهش بازده را مشاهده کنید. ما لامپهای پخت کنترلشده در اتمسفر را به گونهای طراحی کردهایم که این دو حالت شکست را به طور کامل متوقف کنند.
آنچه واقعاً زیر سطح اهمیت دارد
ما از گرمایش مادون قرمز کوتاهموج (SWIR) با عناصر کوارتز-هالوژن استفاده میکنیم و محفظه فرایند مهر و موم شده و با نیتروژن پاکسازی میشود تا اکسیژن و رطوبت وارد نشوند. در طول منطقه پخت، یکنواختی دمای سطح ویفر در ±۰.۱ درجه سانتیگراد حفظ میشود و تکرارپذیری نقطه تنظیم در محدوده ±۰.۲ درجه سانتیگراد است. هنگام تغییر دستورالعملها، سیستم ظرف کمتر از ۵ ثانیه تثبیت میشود—بنابراین میتوانید محصولات مختلف را بدون نیاز به نگهداری حرارتی طولانی و غیرضروری اجرا کنید.
این دستگاه برای اتاق تمیز کلاس ۱ تا ۱۰۰ آماده است: مواد کمگسیل و مسیر خروجی فیلترشده که از افزایش ناگهانی تعداد ذرات جلوگیری میکند.
چرا این روش در لیتوگرافی مؤثر است
در لیتوگرافی، لازم است پروفایل فوتورزیست در هر دسته و هر ویفر یکسان باشد. این لامپ با حفظ بودجه حرارتی دقیق این امکان را فراهم میکند—کاهش تغییر عرض خطوط و کنترل بهتر پروفایل. اتمسفر کنترلشده از تشکیل پوست و به دام افتادن حلال جلوگیری میکند، که به معنای کاهش نقصها و دوبارهکاری کمتر است.
از آنجا که SWIR به طور مستقیم گرما میدهد و چرخهها کوتاهتر هستند، مصرف انرژی کاهش مییابد. همچنین واحد برای کارکرد ۲۴/۷ در کارخانه طراحی شده است، با فواصل نگهداری قابل برنامهریزی—نه توقفهای ناگهانی و غیرمنتظره.
آنچه باید در نصب و نگهداری دقیق رعایت شود
نصب به مدار برق اختصاصی اتاق تمیز و تأمین نیتروژن با فشار و خلوص مناسب نیاز دارد. اگر تحویل گاز اشتباه باشد، پایداری دما دچار تغییر میشود.
ابعاد دستگاه فشرده است، اما باید فضای کافی برای کانال خروجی و دسترسی خدماتی در نظر گرفته شود.
برای حفظ زمان کارکرد، نگهداری پیشگیرانه بر اساس پیگیری عمر لامپ و بازدید پنجره کوارتزی انجام دهید. با انجام این کارها طبق برنامه، یکنواختی دما و عملکرد ذرات در محدوده مشخص حفظ میشود.